7月7日消息，ASML在昨天回应了针对近期媒体关于ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版DUV光刻机事宜的报道，ASML称：公司一直以来都遵守所适用的法律条例，并没有向中国市场推出任何特别版的光刻机。 

此前，据DigiTimes报道，ASML曾试图规避荷兰新销售许可禁令，并计划面向中国市场推出特别版的DUV光刻机。该报道称，如果该项目得以继续推进， 亿配芯城 中芯国际、华虹等中国半导体企业将可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。

在此之前，荷兰方面正式宣布了一项新的决定，要求企业在出口先进设备前必须获得许可证，新规定将在9月1日生效。在荷兰新规出台之后，ASML表示根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请许可证后才能向中国出口先进的光刻设备。

ASML在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。而该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。

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